光电显示技术是现代信息技术的重要组成部分，涵盖多种显示技术和设备。随着消费电子产品、虚拟/增强现实（VR/AR）、智能交通和工业控制等领域的发展，光电显示技术也在不断进化，正朝着高分辨率、自发光、柔性化、低功耗和智能化方向发展。

Micro-LED和量子点显示等新兴技术有望成为未来的主流趋势。显示技术的不断进步，各种新兴显示技术，如Micro-LED、QLED、柔性OLED，低功耗和智能化显示等，正在推动不同应用场景的发展。随着新材料、新工艺和新技术的不断突破，光电显示技术将在消费电子、工业应用、医疗健康和智能交通等各个领域实现更多的创新和变革，有望进一步拓展其应用范围，改变显示设备在各行业的使用方式。

9月27-29日，“2024南昌国际半导体光电技术与显示应用博览会暨首届南昌半导体光电产业高质量发展论坛”（简称“南昌光电博览会”）在江西南昌绿地国际博览中心举行。本届博览会以“光耀世界·引领未来”为主题，在南昌市人民政府、江西省工信厅指导下，由中关村半导体照明工程研发及产业联盟（CSA）主办，南昌高新技术产业开发区管委会、江西省半导体照明产业协会等单位承办。本届南昌光电博览采用“展览+论坛”的模式，除开幕大会，论坛还设有4场主题分论坛，将围绕“半导体光电装备、材料、器件及工艺”、“车用光电子技术及应用”、“智慧健康照明技术及应用”、“光电显示技术与应用”等主题展开探讨。

主持人：梁 超

江苏博睿光电股份有限公司副总经理

主持人：郝茂盛

上海芯元基半导体科技有限公司总经理

刘 斌

南京大学电子科学与工程学院教授、副院长

《Micro-LED全彩芯片与驱动集成技术研究》

南京大学电子科学与工程学院教授、副院长刘斌带来了“Micro-LED全彩芯片与驱动集成技术研究”的主题报告，分享了氮化镓基Micro-LED材料生长、RGB量子点集成及二维材料异质集成Micro-LED、Micro-LED在可见光通信的应用等研究进展与成果。涉及MOCVD生长GaN薄膜和量子阱结构、小尺寸的Micro-LED器件、超高分辨Micro-LED微显示器件阵列、高密度Micro-LED与二维材料TFT异质集成、Micro LED垂直集成MOSFET、Micro-LED透明直显芯片技术、Micro-LEDs全彩显示方案、InGaN基全色RGB Micro-LED芯片、InGaN基RGB Micro-LED芯片、氮化物-量子点杂化结构自光LED器件、低至2um分辨率的量子点图形化技术、Micro-LED用于VLC可见光通信、弱极化场量子阱Micro-LED设计与制备、半极性面量子阱Micro-LED用于VLC通信等。

其中，报告指出，量子点光刻技术转移效率高，成本低，在四英寸晶圆蓝光Micro-LED阵列上实现红绿双色量子点图形转移。蓝光Micro-LED外量子效率24%，绿光量子点外量子效变温峰位移动率15%，红光量子点外量子效率10%。变温峰位移动3~5nm。

戴高宇

上海大学微电子学院副教授

《基于CMOS驱动的Micro-LED未来显示及创新应用》

上海大学微电子学院副教授戴高宇带来了“基于CMOS驱动的Micro-LED未来显示及创新应用”的主题报告，分享了未来显示发展趋势、未来显示技术创新应用以及CMOS驱动的Micro-LED显示研究进展等内容。未来显示技术将向着高亮度、高稳定性、高像素密度、高对比度、高色域、高刷新率、高响应速度等方向发展，CMOS将驱动未来显示。未来显示技术创新应用中，数字车灯和AR-HUD是重要内容。

有数据显示，汽车智能化发展推动数字大灯市场需求量、车载HUD市场需求量骤增，3~5年AR-HUD将逐步取代W-HUD。CMOS驱动的Micro-LED显示研究方面，报告分享了针对低功耗，高像素密度问题，发明面向大电流、高灰阶的缩放驱动扫描基板架构，面向LED驱动的超高密度像素灰阶自举电路，面向LED驱动的图像缩放加速电路。对于高像素密度Micro-LED&CMOS键合。针对键合串联电阻高、可靠性低问题，发明了叠层金属凸点结构，提出了Au-In-Au多层复合金属新结构，有效减少键合界面的裂缝和空隙，降低串联电阻，提高器件性能及可靠性。报告指出，大电流密度三色CMOS驱动基板，高稳定性键合方式仍需要关注。

刘国旭

北京易美新创科技有限公司CTO、执行副总裁

《先进封装在Mini-LED背光的新应用：白光COB技术》

新一代显示是交互的主要入口，北京易美新创科技有限公司CTO、执行副总裁刘国旭带来了“先进封装在Mini-LED背光的新应用：白光COB技术”的主题报告，分享了新一代显示技术、Mini-LED背光市场前景，基于CSP的白光COB技术，以及Mini-LED应用案例等内容。Mini-LED被认为是走向Micro-LED的必经之路。报告显示，对降本的需求推动了技术路线和方案迭代，AM驱动助力Mini-LED局域调光及画质提升，PCB设计助力Mini背光降本，白光化助力Mini-LED 技术项中低阶渗透。

报告指出，Mini-LED背光助力LCD提升画质效果，延长了巨额投资的液晶面板生命周期,在高端电视、电竞显示器、车载显示等已经逐渐导入，已展现出接近甚至优于OLED的画质和可靠性。LED色转换、透镜光学设计、AM驱动IC、PCB布线设计的优化进一步改善Mini-LED性能指标及显示画质效果。低分区、灯条化、白光化、微透镜、光驱集成等降本方案有助于Mini-LED在中低阶TV应用的渗透。易美新创率先在行业内量产白光化WCOB，并持续优化光学方案以进一步提升Pitch/OD值，为客户提供高性价比背光方案。Mini-LED也是通往Micro-LED的必经之路，为Micro-LED在芯片微缩化、封装材料、工艺效率、良率管控、供应链完善等方面奠定了基础。

牟同升

浙江大学教授、浙江智慧健康照明研究中心主任

《元宇宙与VR/AR产品评测及国际标准进展》

元宇宙可定义为一个通用的、身临其境的虚拟世界，主要由虚拟现实(VR)和增强现实(AR)来实现。因此，VR/AR/MR技术与ICT集成对元宇宙的发展和演变至关重要。ISO和IEC通过相关的技术委员会和分委员会(TC/SC)，20多年来一直在制定与实施元字宙应用相关的标准已经制定的标准包括图像、音频、视频和 VR/AR/MR标准，以及用于学习、教育和培训的信息技术标准。为了系统地建立整个元宇宙的全球标准，国际电工委员会(IEC)标准化管理委员会成立一个系统评估小组(SEG 15)来探讨元宇宙的需求。SEG 15 将对元宇宙形成共同的理解和定义，调查标准化的需求，并为初步路线图提供建议。它将与国际电工委员会(IEC)和国际标准化组织(IS0)的各个技术委员会以及其他相关组织合作，推进全球标准。

浙江大学教授、浙江智慧健康照明研究中心主任牟同升带来了“元宇宙与VR/AR产品评测及国际标准进展”的主题报告，分享了元宇宙国际标准化，以及VR/AR产品光学评测等内容。中国三色公司(SENSING)主导制定了多项VR/AR国际标准，报告介绍了IEC63145-20-10 眼戴显示器光学性能基本测试方法、IEC63145-20-20 眼显示器图像质量基本测试方法、IEC63145-22-20眼戴显示器AR的图像质量测试方法、IEC63145-40-10 眼戴显示器-环境光传感器感知测试方法、IEC63145-40-20 眼戴显示器-运动传感器感知测试方法等标准，其中，元宇宙中光和照明国际标准研究中，CIE/ISO TC274 RF04增强现实、虚拟现实和混合现实应用中的照明，主要范围为研究虚拟世界、以及虚拟与现实世界融合中产生新的光和照明问题，从而提出相应的国际标准化。VR/AR产品光学评测涉及虚拟现实显示光学成像、虚拟现实光学测量坐标系、恒定视角虚拟图像感知、虚拟现实光学测量设备等。

梁 超

江苏博睿光电股份有限公司副总经理

《面向多应用场景的LED用荧光粉及整体解决方案开发》

LED照明应用继续向新领域拓展。江苏博睿光电股份有限公司副总经理梁超带来了“面向多应用场景的LED用荧光粉及整体解决方案开发”的主题报告，分享了更高效的解决方案更新，高温高效、更高的颜色均匀性、“非视觉”生物效应的全光谱，商业照明、背光解决方案、LD照明和LD显示器等研究进展，以及在农业、捕鱼采集灯、鸡舍灯等超越照明领域的探索。

报告指出，LED照明技术的应用场景不断拓展，对发光材料提出更多的需求和挑战。通过结合多波段蓝光芯片组合与荧光粉的整体光谱调制，可以实现光效的显著提升。未来新应用场景呼唤更多具有综合应用性能的新型荧光粉。博睿光电的研发新方向将关注高色域显示、高光效照明、激光照明及显示、红外光转换材料、植物光照、界面连接材料、 高导热陶瓷/金属化等。

孙 铮

利亚德光电集团产品总监

《新技术赋能，驱动企业创新发展，利亚德基于AI大模型行业应用》

AI是新一轮科技革命和产业变革的重要驱动力量。利亚德光电集团产品总监孙铮带来了“新技术赋能，驱动企业创新发展，利亚德基于AI大模型行业应用“的主题报告，结合AI大模型研发应用场景，AI大模型对企业的价值，AI对LED显示行业的影响，分享了利亚德多年来在软件平台建设、系统集成解决方案持续投入的最新成果，新一代AI生成式客服助手平台、AI智能助手、DAS数据大屏可视化解决方案等。报告介绍了利亚德“一体三核”能力布局及发展战略内容，利亚德全面发力AI与空间计算。产品布局涉及动作捕捉产品、动作大模型、数据资产管理平台等，涉及空间计算技术、空间计算技术、大模型技术、LYDIA大模型服务等。

周名兵

晶能光电股份有限公司外延工艺高级经理

《硅衬底 GaN材料在Micro-LED微型显示制备中的优势及应用》

Micro-LED微显示具有超高亮度、高可靠性、低响应时间、高像素密度、高色彩饱和度、小尺寸等优势，可广泛应该于近眼显示 、微投影、车载HUD、运动光学、光通信、3D打印、光场显示等。晶能光电股份有限公司外延工艺高级经理周名兵带来了”硅衬底 GaN材料在Micro-LED微型显示制备中的优势及应用“的主题报告，分享了Micro-LED 微显示应用、Micro-LED 微显示技术路线和技术挑战、晶能光电大尺寸硅衬底GaN材料的开发现状等内容。Micro-LED+光波导微显模组是实现轻便AR设备的最理想光引擎。Micro-LED微显示技术面临着芯片、全彩、驱动、检测、成本等挑战，采用不同的技术方案探索高亮度、高色域的Micro LED全彩显示，目前都有对应的问题。目前InGaN红光还是存在效率低，发光光谱半峰宽大和波长偏移大的问题。

报告指出，硅衬底外延容易实现大尺寸、低衬底成本、高波长一致性、同质键合翘曲小、无损去除、CMOS兼容性等；可以充分借助集成电路的工艺和设备，实现高良率、低成本、高效率的Micro LED微显模组制造，是Micro LED微显的最佳产业化方案。大尺寸硅衬底GaN路线是比较契合现在微显示技术发展，晶能光电近20年的硅衬底GaN材料外延积累，开发了4~12英寸硅衬底GaN基全色系的LED外延技术，能够匹配上不同的全彩技术方案 。为推动Micro-LED先进制程落地，晶能率先突破12英寸硅衬底GaN基红、绿、蓝三基色Micro LED外延技术。大尺寸硅衬底GaN材料已经被应用于Micro-LED微显示量产开发。

赵宇喆

先导科技集团中央研究院项目总监

《基于8/12寸蓝宝石衬底的GaN Micro LED 外延产业化进展》

先导科技集团中央研究院项目总监赵宇喆带来了”基于8/12寸蓝宝石衬底的GaN Micro LED 外延产业化进展“的主题报告，分享了不同衬底技术GaN外延技术路线比较、核心MOCVD量产8寸外延设备情况、GaN on Sapphire大尺寸外延的技术挑战、蓝宝石衬底在芯片制程当中的挑战、12寸蓝宝石衬底应用展望等内容。报告指出，随着8寸蓝宝石衬底的成本进一步下降，GaN on Sapphire技术路线在衬底、工艺、设备三个环节都没有明显的堵点难点，有望随着Micro LED爆发的投资浪潮中成为GaN外延的主流技术路线。较之传统的LED产业，Micro LED产业更接近半导体产业，向Fabless/Fab-lite模式迈进，产业分工进一步明确，类似传统LED产业衬底-外延-芯片垂直整合的模式大概率不会在Micro LED产业出现。核心MOCVD外延设备已经为大规模生产Micro LED做好准备，国产设备将成为主流，核心零部件国产化是下一个重要课题。

除开幕大会，本届论坛还设有4场主题分论坛将围绕“半导体光电装备、材料、器件及工艺”、“车用光电子技术及应用”、“智慧健康照明技术及应用”、“光电显示技术与应用”等主题展开探讨。

同期还设有展览展示、CSA二十周年纪念活动，CSAS技术与标准研讨会、CSAS Micro-LED标准专题研讨会、CSAS 健康照明标准专题研讨会、CSAS 紫外LED标准专题研讨会等联动活动，共同探讨促进产业链各环节的协同发展。

博览会展览展示面积10000平方米，百余家知名厂商参与展示。展品范围包括户外照明、灯具及灯饰、LED设备及测试设备、显示应用、智慧照明、LED封装、照明电器产品专用材料、电光源产品、照明电器配套等，为产业链的升阶发展搭建供需精准对接平台，助力企业高效、强力拓展目标客户资源，全面赋能产业全链路打造高质量发展新引擎，打造半导体光电领域的标杆性展会。

领导专家莅临展览现场